Avaliação do comportamento corrosivo do TICP em diferentes soluções eletrolíticas

Este estudo investigou o comportamento corrosivo do titânio (Ti) em diferentes condições bucais: saliva artificial com pH 3; 6,5 e 9; e em simulador de fluido corpóreo (SFC) com pH 7,4. Os discos de Ti (10 mm x 2 mm) foram polidos com lixas sequenciais. O teste eletroquímico foi realizado usando um...

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Main Authors: Barao, Valentim Adelino Ricardo, Silva, Giulia Rafaeli da, Oliveira, Rafael Alves de, Oliveira, Thiago Jesus Pereira de, Cordeiro, Jairo M., Nagay, Bruna E., Pantaroto, Heloisa N.
Format: Online
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual de Campinas 2019
Subjects:
Online Access:https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/1467
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Description
Summary:Este estudo investigou o comportamento corrosivo do titânio (Ti) em diferentes condições bucais: saliva artificial com pH 3; 6,5 e 9; e em simulador de fluido corpóreo (SFC) com pH 7,4. Os discos de Ti (10 mm x 2 mm) foram polidos com lixas sequenciais. O teste eletroquímico foi realizado usando um método padrão de 3 eletrodos. Foi realizada a espectroscopia de impedância eletroquímica para adquirir a resistência à polarização (Rp) e a capacitância (Q). A densidade de corrente de corrosão (Icorr), a densidade de corrente de passivação (Ipass) e a taxa de corrosão foram obtidas a partir das curvas de polarização. ANOVA one-way e teste de Tukey (?=0,05) foram utilizados na análise estatística. A SFC diminuiu a resistência à polarização quando comparada à saliva artificial em pH 6,5 e 9 (p<0,05), porém apresentou valores semelhantes à saliva com pH 3. Não houve diferenças significativas entre os grupos com relação à capacitância (p>0,05). A saliva artificial com pH 9 apresentou os menores valores de Icorr, Ipass e taxa de corrosão quando comparados com a SFC e a saliva com pH 3 (p<0,05), indicando ser um ambiente menos corrosivo. Pode-se concluir que o simulador de fluido corpóreo prejudicou o comportamento corrosivo do Ti, sendo que a saliva artificial com pH 9 melhorou a estabilidade eletroquímica deste material.
ISSN:2596-1969