Caracterização estrutural de filmes finos por técnicas de raios X
O trabalho que será apresentado é resultado de seis meses de aprendizado de tecnicas de raio-x aplicado no reconhecimento de filme fino sobre silício como substrato. Foram analizadas um conjunto de 7 amostras e sobre elas verificou-se a influência da relação de pulso/purga de DeZ e de água sobre o s...
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| Main Authors: | , , , |
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| Format: | Online |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade Estadual de Campinas
2019
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/1865 |
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| author | Barrera, Victor Cardoso, Lisandro Silva, Diego da Júnior, Odilon Couto |
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| description | O trabalho que será apresentado é resultado de seis meses de aprendizado de tecnicas de raio-x aplicado no reconhecimento de filme fino sobre silício como substrato. Foram analizadas um conjunto de 7 amostras e sobre elas verificou-se a influência da relação de pulso/purga de DeZ e de água sobre o substrato de silício, variando o tempo de aplicação sobre cada amostra. |
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