Preparação e determinação de propriedades termomecânicas de TiO2 para aplicação em células solares

Foram preparados filmes compactos de dióxido de titânio por Deposição por Camadas Atômicas (ALD) para aplicação como blocking layer e camada antirrefletora para células solares. Os filmes foram depositados a 200°C e recozidos a 300°C, 400°C e 500°C. Foram feitas caracterizações das propriedades term...

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Bibliographic Details

Main Authors:	Carvalho, Julia Carina dos Santos, Marques, Francisco das Chagas, Merlo, Rafael B.
Format:	Online
Language:	Portuguese
Published:	Universidade Estadual de Campinas 2019
Subjects:	Atomic layer deposition Propriedades termomecânicas Stress.
Online Access:	https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/702
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