Propriedades eletroquímicas e adsorção de albumina em filmes de anatase e rutilo obtidos por meio de pulverização catódica
O estudo objetiva investigar as propriedades eletroquímicas, bem como a adsorção de albumina em filmes de TiO2 obtidos por meio de pulverização catódica. O TiO2 foi depositado sobre a superfície do titânio comercialmente puro (Ticp) nas fases cristalinas anatase (A- TiO2), rutilo (R-TiO2), e mistura...
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| Format: | Online |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade Estadual de Campinas
2019
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/906 |
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| Summary: | O estudo objetiva investigar as propriedades eletroquímicas, bem como a adsorção de albumina em filmes de TiO2 obtidos por meio de pulverização catódica. O TiO2 foi depositado sobre a superfície do titânio comercialmente puro (Ticp) nas fases cristalinas anatase (A- TiO2), rutilo (R-TiO2), e mistura (anatase e rutilo) (M-TiO2). O Ticp foi utilizado como controle. A superfície das amostras foram caracterizadas quanto à composição química, morfologia, fase cristalina, rugosidade e energia livre de superfície (ELS). Para o ensaio eletroquímico, testes padrões foram conduzidos em solução de fluido corpóreo (pH 7,4). A adsorção de albumina foi mensurada pelo método do ácido bicinconínico. ANOVA one-way e teste de Tukey (? = 0,05) foram utilizados na análise estatística. Todos os grupos apresentaram rugosidade semelhante. Os grupos controle e M-TiO2 apresentaram maior ELS (p<0,001). O grupo R-TiO2 apresentou os maiores valores de resistência à polarização e potencial de corrosão, diminuindo a capacitância e a densidade de corrente de corrosão (p<0,05). No entanto, o grupo M-TiO2 apresentou a melhor passivação do material. O grupo M-TiO2 obteve a maior taxa de adsorção de albumina (p<0,001). Conclui-se que a deposição de filmes de TiO2 na superfície, especialmente na fase de mistura, promoveu melhorias nas propriedades superficiais e eletroquímicas, bem como maior adsorção de proteínas na superfície, sendo uma opção promissora para aplicação em implantes dentários. |
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| ISSN: | 2596-1969 |