Produção de filmes de ZnO por ALD (atomic layer deposition)
Filmes finos de ZnO tem várias aplicações em dispositivos eletrônicos como em diodos, transistores, dispositivos piezoelétricos e células solares. Neste trabalho desenvolvemos este material pela técnica ALD (Atomic Layer Deposition) utilizando um equipamento recém adquirido pelo laboratório de pesqu...
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| Main Authors: | , |
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| Format: | Online |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade Estadual de Campinas
2019
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/1318 |
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| Summary: | Filmes finos de ZnO tem várias aplicações em dispositivos eletrônicos como em diodos, transistores, dispositivos piezoelétricos e células solares. Neste trabalho desenvolvemos este material pela técnica ALD (Atomic Layer Deposition) utilizando um equipamento recém adquirido pelo laboratório de pesquisas fotovoltaicas do IFGW. Esta técnica permite deposições camada-por-camada (layer-by-layer) dos filmes de maneira conformal (o filme se deposita assumindo a forma da superfície do substrato). Investigaremos o efeito da temperatura entre 100 ºC e 300 ºC. |
|---|---|
| ISSN: | 2596-1969 |
