Nano-oxidação do silício: influência dos processos de crescimento convencional e pirogênico na qualidade e na uniformidade dos óxidos finos obtidos em superfícies irregulares contendo degraus abruptos

Neste trabalho, foram crescidos filmes finos de óxido de silício sobre superfícies contendo formas retangulares periódicas com 100 nm de altura, obtidas a partir de corrosões por plasma localizadas. Os óxidos de silício (SiO2) com cerca de 4,5 nm de espessura foram crescidos em ambientes ultrapuros...

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Bibliographic Details

Main Authors:	Souza, R., Nogueira , W. A., Filho , S.G. dos Santos
Format:	Online
Language:	Portuguese
Published:	Universidade Estadual de Campinas 2006
Subjects:	Silício Física Nano oxidação Nano oxidation Silicon Physics
Online Access:	https://econtents.sbu.unicamp.br/inpec/index.php/physicae/article/view/13440
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