Desenvolvimento da corrosão do silício usando solução de NH4OH para a obtenção de nano fios de silício para aplicação em transistores 3D
Este trabalho apresenta o desenvolvimento da corrosão do Silício usando solução de NH4OH para obtenção de nano fios de Si (com dimensões menores do que 100 nm) que são usados como canal de condução de corrente elétrica de transistores FinFET, que são dispositivos MOS tridimensionais. As seguintes et...
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| Format: | Online |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade Estadual de Campinas
2019
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://econtents.sbu.unicamp.br/eventos/index.php/pibic/article/view/2988 |
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